Nano alüminium tozu

Şirkətimiz tərəfindən istehsal olunan nano alüminium tozunun ərimə nöqtəsi 2050 ° və qaynama nöqtəsi 2980 °. Aşınmaya davamlı örtüklərdə və plazma örtüklərində geniş istifadə olunur, bu örtüklərin aşınma müqavimətini artıra bilər, onları daha davamlı edir, axını asanlaşdırır və toz örtük dərəcəsini yaxşılaşdırır. Bobin polad örtüklərində, nano alüminium tozumuz polad üçün hərtərəfli qorunma təmin edərək və xidmət müddətini uzadan istilik və radiasiya üçün qoruyucu agent kimi xidmət edə bilər; O, həmçinin biokeramika və alüminium keramika, yüksək effektiv katalizatorlar, optik materiallar, dəqiq cilalama materialları və monokristal silikon vaflilərin üyüdülməsi üçün istifadə edilə bilər. Nano alüminium mükəmməl qoruyucu və yapışdırıcı xüsusiyyətləri ilə floresan borular və işıq lampaları sahələrində məhsulların dayanıqlığını və etibarlılığını təmin edir; Bundan əlavə, nano alüminium oksidi yüksək keyfiyyətli inkjet çap kağızı sahəsində örtük materialı kimi istifadə olunur ki, bu da kağıza yüksək parlaqlıq və əla çap keyfiyyəti bəxş edə bilər, çap olunan mətni və təsvirləri daha aydın edir. Nano alüminium oksidi həmçinin tozun axıcılığını yaxşılaşdıra, sürtünmə tipli tozun müsbət yükünü artıra və beləliklə, elektrostatik sürtünmə metodundan istifadə edərək toz örtüklərinin örtük performansını yaxşılaşdıraraq müasir örtük texnologiyasına yeni bir irəliləyiş gətirə bilər.

Şirkətimiz yüksək ərimə nöqtəsi, yüksək kimyəvi sabitlik və dielektrik xüsusiyyətləri, yüksək sərtlik, yaxşı aşınma müqaviməti və aşağı qiymətə malik nano alüminium tozu istehsal edir. Metalların, keramikaların, plastiklərin və digər materialların səthinə nano alüminium tozunun püskürtülməsi səthin möhkəmliyini, aşınma müqavimətini və korroziyaya davamlılığı əhəmiyyətli dərəcədə yaxşılaşdıra bilər. Nano alüminium oksidi əla elektrik izolyasiyasına, kimyəvi davamlılığa, istilik müqavimətinə, güclü radiasiyaya davamlılığa, yüksək dielektrik sabitliyə və düz və vahid səthə malikdir. Yarımkeçirici materiallar və iri miqyaslı inteqral sxemlər üçün substrat materialı kimi istifadə oluna bilər və mikroelektronika, elektronika və informasiya sənayesində geniş istifadə olunur.